TECHNOLOGY

技術紹介

GUALA DEVICE

グエラデバイス

世界に挑戦する技術“グエラデバイス”

グエラテクノロジーが独自開発したグエラデバイス。
豊かな未来につながる、日本生まれの世界に挑戦できる技術です。

BASIC TECHNOLOGY

基礎技術

酸化物半導体の光励起構造変化による新機能発現

電極上に塗布分解法で酸化物半導体を成膜し、これに紫外線照射*することにより、
酸化物半導体のバンドギャップに電子捕獲用準位を形成します。
その後、電極を形成し、上下の電極間に電圧を印加することにより、
酸化物半導体のバンドギャップの準位に電子を出し入れします。
バンドギャップ中に電子があると光を吸収して黒(グレー)になります。また、バンドギャップ中に電子がないと透明になります。
また、電子捕獲順位に電子を出し入れすることにより、充放電ができます。
*紫外線照射により、原子の再配列(光励起構造変化)をしています。

SECONDARY BATTERY

応用技術:蓄電デバイス(グエラデバイス)

世界初の環境に優しい新技術

酸化物半導体のバンドギャップ中に電子捕獲準位を形成、この準位に絶縁層を介して
電子を充填(充電)するか空(放電)にするかにより、充放電を行います。

グエラデバイスの特徴

グエラテクノロジー完全オリジナル技術

コンパクトで大容量

無機個体の為、安全・耐環境性

高速充放電

シンプル構造